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    2026年版 次世代パワーデバイス関連市場の現状と将来展望

    2026年版 次世代パワーデバイス関連市場の現状と将来展望
    発刊日2026/02/24 112509807

    市場環境の悪化等により厳しい状況が続いてきたパワーデバイス市場は、在庫解消の兆しが見えつつあり、2026年以降の市場拡大が見込まれます。中長期的な市場拡大が期待される化合物半導体は、SiCパワーデバイスはEV市場の低迷や中国ローカルメーカーの台頭による価格下落の影響など、市場環境が日々変化しています。一方、GaNパワーデバイスは中耐圧領域での採用増加、酸化ガリウムパワーデバイスやダイヤモンドパワーデバイスの早期実用化に向けた開発が継続的に進められています。本調査では、パワーデバイス、構成部材、製造装置の市場動向技術開発動向などを明らかにします。

調査対象

パワーデバイス編
 1.整流ダイオード
 2.SBD(ショットキー・バリア・ダイオード)
 3.FRD(ファースト・リカバリー・ダイオード)
 4.SiC-SBD
 5.バイポーラパワートランジスタ
 6.低耐圧パワーMOSFET
 7.高耐圧パワーMOSFET
 8.IGBTディスクリート
 9.SiC-FETディスクリート
 10.GaNパワーデバイス
 11.サイリスタ・トライアック
 12.IGBTモジュール
 13.インテリジェントパワーモジュール
 14.サイリスタ/ダイオードモジュール
 15.SiCパワーモジュール
 16.酸化ガリウムパワーデバイス
 17.ダイヤモンドパワーデバイス

構成部材編
 18.シリコンウェーハ
 19.SiCウェーハ
 20.GaNウェーハ
 21.酸化ガリウムウェーハ
 22.ダイヤモンドウェーハ
 23.窒化アルミニウムウェーハ
 24.二酸化ゲルマニウムウェーハ
 25.半導体レジスト
 26.バッファーコート膜
 27.CMPパッド
 28.CMPスラリー
 29.ダイボンディングペースト
 30.はんだ
 31.シンタリング接合材
 32.ボンディングワイヤ
 33.封止材料
 34.窒化アルミニウム回路基板
 35.アルミナ系回路基板
 36.窒化ケイ素回路基板・白板
 37.金属放熱基板
 38.放熱シート
 39.放熱グリース

製造装置編
 40.エピ膜成長装置
 41.グラインダ
 42.CMP装置
 43.プラズマCVD
 44.コータ/デベロッパ
 45.露光装置
 46.イオン注入装置
 47.熱処理装置
 48.レーザーアニール装置
 49.ドライエッチング装置
 50.スパッタリング装置
 51.洗浄装置
 52.ダイシング装置
 53.ダイボンダ
 54.焼結装置
 55.ワイヤボンダ
 56.モールティング装置
 57.ウェーハ外観検査装置
 58.チップ外観検査装置
 59.電気テスタ装置

※調査過程で変更となる可能性がございます。
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提供利用形態

本体価格 税込価格 ネットワーク共有
書籍版 180,000円 198,000円 -
書籍版 PDF版 210,000円 231,000円
  • レポート本文をPDFファイルで提供します。印刷およびネットワーク共有はできません。
書籍版 PDF版 230,000円 253,000円
  • レポート本文と数表データをPDFファイルとExcelファイルで提供します。
    印刷およびネットワーク共有はできません。
360,000円 396,000円
  • レポート本文と数表データをPDFファイルとExcelファイルでダウンロード提供します。
    ダウンロードサービスをご利用いただくにはマイページ登録が必要です。
360,000円 396,000円
  • レポート本文データをPDFファイルで提供します。
    提供媒体はCD-ROMとなります。数表データのExcelファイルは含まれません。

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本体価格 税込価格 ネットワーク共有
電子書籍 30,000円 33,000円 クラウド利用
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