REPORTS調査レポート

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    2026 先端/注目半導体関連市場の現状と将来展望

    2026 先端/注目半導体関連市場の現状と将来展望
    発刊日2026/03/10 832509812

    生成AIを筆頭とする各種クラウドサービスやそれを支えるインフラへの投資が半導体関連市場の成長をけん引しています。技術面ではデザインルール微細化に向け、次世代ゲート構造のGAA・C-FETや、電源配線技術のBSPDNの開発が進められ、高多層3D NANDの生産性向上を目的としたクライオエッチングに向けた開発競争も激化しています。日本は経済安全保障リスク回避や、デジタル産業基盤の戦略的自立性を目的に、日系半導体メーカーへの投資や海外半導体メーカー工場の国内誘致を進めています。本市場調査資料では、生成AI、エッジAI、DX・GXを実現する先端/注目半導体デバイス、関連部材の現状と将来分析を行い、半導体関連市場を俯瞰できるデータベースを提供します。

調査対象

I. アプリケーション
 1. サーバー
 2. PC
 3. スマートフォン
 4. 自動車

II. 半導体デバイス
 1. PC向けCPU
 2. サーバー向けCPU
 3. GPU
 4. サーバー向けアクセラレーター
 5. ネットワークスイッチチップ
 6. モバイル機器向けSoC
 7. SSDコントローラー
 8. DDIC
 9. マイコン
 10. DRAM
 11. HBM
 12. NAND
 13. IGBT
 14. パワーMOSFET
 15. イメージセンサー

III. 半導体関連材料
 1. シリコンウェハ
 2. フォトマスクブランクス
 3. フォトマスク
 4. ペリクル
 5. ターゲット材
 6. めっき薬液
 7. フォトレジスト(i線・g線)
 8. フォトレジスト(KrF・ArF)
 9. フォトレジスト(EUV)
 10. CMPスラリー
 11. 洗浄液
 12. バックグラインドテープ
 13. ダイシングテープ
 14. ダイアタッチフィルム

IV. 注目技術・製造プロセス
 1. 裏面電源供給ネットワーク(BSPDN)
 2. 次世代ゲート構造(GAA、C-FET)
 3. High Bandwidth Flash(広帯域幅フラッシュメモリー)
 4. クライオエッチング
 5. シリコン量子ビット
 6. その他注目プロセス(MEMSなど)

V. 半導体関連装置
 1. 露光装置
 2. スパッタリング/CVD装置
 3. ドライエッチング装置

VI. その他
 1. プローブカード
 2. ICソケット
 3. 静電チャック
 4. 冷却チラー

※上記品目より40品目程度を対象とします。
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調査項目

■総括
 1. 総括
 2. カテゴリー別市場規模推移・予測
 3. 製造工程と使用材料・装置(前工程・後工程)
 4. 半導体業界を取り巻く環境(貿易摩擦、マクロ経済など)
 5. 主要半導体メーカーの動向
 6. 主要地域の半導体政策
 7. 半導体・シリコンウェハ需給バランス
 8. デバイス別採用パッケージ動向
 9. 先端半導体の微細化ロードマップと関連技術
 10. 先端パッケージのロードマップと関連技術
 11. ウェハ積層技術の動向

■アプリケーション
 1. 製品概要/定義
 2. ワールドワイド市場規模推移予測(2024年実績~2031年予測)
 3. メーカーシェア
 4. 半導体デバイス搭載動向

■注目技術・製造プロセス
 1. 技術・製造プロセス概要
 2. 採用ロードマップ
 3. 必要となる材料、装置
 4. 主要参入メーカーリスト(半導体デバイス、材料、装置)

■半導体デバイス
 1. 製品概要/定義
 2. 量産デザインルール
 3. 先端製品ロードマップ
 4. ワールドワイド市場動向
 5. 用途別動向
 6. タイプ別動向
 7. 価格動向(2025年Q4時点)
 8. メーカー動向
 9. パッケージタイプ別動向
 10. サプライチェーン(2025年Q4時点)
 11. 出荷にかかわる規制動向

■半導体関連材料/半導体関連装置/その他
 1. 製品概要/定義
 2. 半導体デバイス製造における採用プロセス
 3. 製品ロードマップ
 4. ワールドワイド市場動向
 5. 用途動向
 6. タイプ別動向
 7. 価格動向(2025年Q4時点)
 8. メーカー動向
 9. サプライチェーン(2025年Q4時点)
 10. 出荷にかかわる規制動向
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